在黄光制程中，光刻胶被涂覆在基底表面，然后使用特定波长的光源进行曝光。曝光后，未曝光的部分会被溶解掉，留下需要的图案。这个过程需要高度精密的设备和技术支持，以确保图案的准确性和一致性。
黄光制程的关键在于其对环境条件的严格控制。为了防止光刻胶受到光照的影响，整个操作通常在黄色光线环境下进行。这种光线不会影响光刻胶的特性，因此得名“黄光”。
此外，黄光制程还涉及到一系列复杂的化学和物理过程，包括显影、蚀刻和清洗等步骤。这些步骤共同作用，使得最终的产品能够达到设计要求，并具备良好的性能和可靠性。
总之，黄光制程是半导体制造中的核心技术之一，对于推动电子信息技术的发展具有重要意义。随着科技的进步，黄光制程也在不断优化和完善，以满足更高精度和更大规模生产的需要。
